Imerzní fotolitografie je návrh optické dráhy, který kombinuje lom a odraz může snížit počet optických součástí projekčního systému, kontrolovat aberaci a tepelné efekty a realizovat numerickou aperturu Na 1,35. Když imerzní fotolitografie není zcela ponořena do vody, ale je naplněna vodou pouze mezi expoziční oblastí a fotolitografickou čočkou. Expoziční hlavice (expoziční hlavice) musí být speciálně navržena tak, aby zajistila: (1) vniknutí vody do povrchu destičky – snímací pohyb, žádné prosakování; (2) Ve vodě nejsou žádné bubliny a částice. Při vlnové délce 193 nm je index lomu vody 1,44 a lze dosáhnout NA.
Obrázek 1 je schematický diagram imerzní fotolitografie, deionizovaná voda, která je dále odstraňována, odplyňována, teče do expoziční hlavy po konstantní teplotě, plnění mezi plátkem a čočkou, poté Exuberant. Kromě povrchového napětí je osvitová hlava navržena také se speciálním vedením (vzduchovým nožem), aby bylo zajištěno, že voda nebude snadno pronikat ze strany.
